Kina uppges ha utvecklat en fungerande litografiscanner med EUV-ljuskälla (extreme ultraviolet) i form av en prototyp framställd av tidigare ASML-anställda, rapporterar nyhetsbyrån Reuters. Utrustningen ska ha stått färdig i början av 2025 och är en bakåtkonstruerad variant av nederländska ASML:s äkta vara för att i dagsläget undergå tester, rapporterar nyhetsbyrån med hänvisning till två källor.
Utrustningen uppges vara funktionsduglig och kapabel att producera EUV-strålning, med brasklappen att den hittills inte varit kapabel att framställa fungerande kretsar. Just ljuskällan i EUV-litografi är bland mänsklighetens mest avancerade teknologiska framsteg, där strålningen framställs med hjälp av en laser som skjuter tenndroppar 50 000 per sekund. Utvecklingen av EUV-litografi inleddes av ASML i början av 2000-talet och kommersialiserades först närmare 20 år senare – till stor del på grund av att energikällan inte var pålitlig nog för massproduktion av kretsar.
Enligt Reuters källor ska Kina nu ha satt målet att producera kretsar med kopian av ASML:s EUV-scanner till år 2028. Att den överhuvudtaget existerar uppges inte vara en triumf för kinesisk ingenjörskonst, utan den uppges snarare vara ett hopkok av ASML-utrustning och -komponenter som inhandlats på andrahandsmarknaden – eller via mindre nogräknade bolag som vill hålla sig på god fot med Kina.
ASML är ensam leverantör av EUV-utrustning, och har aldrig exporterat den direkt till Kina. EUV-scanners har prislappar på 200–300 miljoner euro per enhet, där den stora vinningen är dess ljuskällas lägre våglängd, 13,5 nanometer, ned från föregångaren DUV:s (deep ultra violet) 193 nanometer med argonfluoridlaser (ArF) som energikälla. Kort sammanfattat och mycket förenklat klarar DUV att framställa kiselstrukturer ned till drygt 20 nanometer, medan EUV kan nå under 10 nanometer – ett krav för fortsatt krympning av halvledare.
Kinas Manhattanprojekt
Reuters kallar det kinesiska EUV-projektet ”Kinas Manhattanprojekt”, och refererar till sekretessen kring utvecklingen som jämförbar med USA:s kärnvapenprojekt under andra världskriget. Bland annat tas exempel upp på hur före detta ASML-ingenjörer som rekryterats till projektet utöver generösa bonusar också fått ID-kort under falskt namn. Projektet uppges husera i teknikstaden Shenzhen, där ingen utomstående ska få vetskap om vad som utvecklas.
En av de stora begränsningarna för ASML:s EUV-utrustning är dess fysiska storlek – maskinerna är betydligt större än sina DUV-föregångare och kräver generellt nya fabriker då existerande infrastruktur inte har högt nog i tak. Även vikten om 180 ton kräver anpassning. Enligt Reuters är den kinesiska kopian ”flera gånger större”, och uppges därtill vara ”grovhuggen men funktionsduglig nog för test”.
I runda slängar uppges ungefär 100 nykläckta ingenjörsstudenter arbeta i Shenzhen med att skruva isär komponenter från DUV- och EUV-utrustning från ASML och dokumentera dem. Projektet uppges också stå under direkt statlig kontroll i Kina – medan Huawei ska ha försett det med arbetskraft.
